膜厚測(cè)試儀又名膜厚測(cè)試儀，分為手持式和臺(tái)式二種，手持式又有磁感應(yīng)鍍層測(cè)厚儀，電渦流鍍層測(cè)厚儀，熒光X射線儀鍍層測(cè)厚儀。手持式的磁感應(yīng)原理時(shí)，利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小，來(lái)表示其覆層厚度。

　　膜厚測(cè)試儀在使用時(shí)，擺放在物件的上方，從儀器當(dāng)中發(fā)射了垂直向下的可視光線。其中一部分光會(huì)在膜的表面形成一個(gè)反射，另一部分則會(huì)透過(guò)儀器的薄膜，在薄膜與物件之間的界面開(kāi)成反射，這個(gè)時(shí)候，薄膜的表面，以及薄膜的底部同時(shí)反射的光會(huì)造成干涉的現(xiàn)象。儀器便是利用了這樣的一種現(xiàn)象，從而測(cè)量出物件的厚度。厚度的測(cè)量看似簡(jiǎn)單，實(shí)測(cè)上所利用的光反射原理，卻是需要經(jīng)過(guò)一系列的設(shè)計(jì)才能達(dá)到如此理想狀態(tài)。如此光學(xué)膜厚測(cè)量?jī)x的使用，便也有著其它傳統(tǒng)測(cè)厚儀所沒(méi)有的優(yōu)點(diǎn)。

　　膜厚測(cè)試儀的使用注意事項(xiàng)：

　　1.零點(diǎn)校準(zhǔn)

　　在每次使用膜厚儀之前需要進(jìn)行光學(xué)校準(zhǔn)，因?yàn)橹暗臏y(cè)量參數(shù)會(huì)影響該次對(duì)物體的測(cè)量，零點(diǎn)校準(zhǔn)可以消除前次測(cè)量有參數(shù)的影響，能夠降低測(cè)量的結(jié)果的誤差，使測(cè)量結(jié)果更加精確。

　　2.基體厚度不宜過(guò)薄

　　在使用膜厚測(cè)試儀對(duì)物體進(jìn)行測(cè)量時(shí)基體不宜過(guò)薄，否則會(huì)極大程度的影響儀器的測(cè)量精度，造成數(shù)據(jù)結(jié)果不準(zhǔn)確，影響測(cè)量過(guò)程的正常進(jìn)行。

　　3.物體表面粗糙程度

　　對(duì)于被測(cè)物體的表面不宜太過(guò)粗糙，因?yàn)榇植诘谋砻嫒菀滓鸸獾难苌?，降低了光學(xué)測(cè)量?jī)x的測(cè)量精度，造成很大的誤差。所以被測(cè)物體的表面應(yīng)該盡量保持光滑，以保證測(cè)量結(jié)果的精確性。